等离子化学气相沉积-PECVD，为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法。它是由500W射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成。此款设备用于生长纳米线、石墨烯或SIC薄膜等

微量探索型热处理回转炉适用于粉末材料回转烧结，物料均匀旋转受热效果好。石英炉管放置于炉体中间，炉管另一端采用卡箍连接旋转密封组件，方便物料出入及管内气压监测。

ZYXG-1200系列气氛箱管热处理混合炉采用优质电阻丝作为加热元件,额定温度1100℃,最高温度可达1200℃(≤30min)。作为单纯的箱式炉用,可对样品在空气环境下进行热处理;作为管式炉用,可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理;采用宇电智能控温仪表和K型热电偶,可编程30段程序控温,控温精度±1C。可应用于气氛下烧结等实验环境。内置双层风冷结构,表面温度≤60℃

ZYX-1200 系列桌面级真空气氛热处理箱式炉是一款专为低氧热处理场景设计的高精度设备，凭借优异的真空性能与精准温控能力，为材料加工提供洁净、稳定的处理环境，广泛适用于科研实验与小批量生产。真空腔体密封严密，可快速抽至目标真空度，有效隔绝空气，避免材料氧化、脱碳，保障处理后材料的纯度与性能；搭载智能控温系统与高灵敏热电偶，控温精度高，支持多段程序升温，适配不同材料的退火、烧结、回火等工艺需求。

高温高压管式热处理炉是专为材料高温处理、催化剂制备及特种材料研发设计的高精度科研设备。可实现陶瓷、金属氧化物、半导体材料的高温高压煅烧,负载型催化剂的活性组分焙烧与活化,以及石墨烯、碳纳米管等纳米材料的高温合成与热处理,为高校、科研院所、企业研发中心提供“高温+高压+精准气氛控制”的多维度材料制备与改性平台，满足材料品体生长、相结构调控、性能优化等研究需求。